製造プロセス|どう作るか– category –
製造プロセス|どう作るかでは、原料からシリコンウェハを作り、微細なトランジスタと多層配線を形成し、パッケージへ仕上げるまでの半導体製造工程を俯瞰します。前工程では、洗浄、酸化、成膜、フォトリソグラフィ、エッチング、イオン注入、アニール、CMP、配線形成を整理。後工程では、ウェハテスト、ダイシング、ボンディング、モールド、パッケージ検査までを紹介します。各工程で使われる装置、材料、薬液、ガス、計測技術と、CD、オーバーレイ、欠陥、歩留まり、スループットなどの管理指標も解説。FEOL・MOL・BEOLのつながりや、微細化・3D化で増える工程数と難しさを理解し、半導体がどのように量産されるのかを基礎から学べるカテゴリーです。工程ごとの目的と前後関係を図解的に捉えられるようにし、ニュースに登場する先端プロセス技術も基本工程とのつながりから説明します。
-
製造プロセス|どう作るか
KGD(Known Good Die)とは?チップレット時代の歩留まりを決める良品ダイ保証【2026年版】
結論:KGD(Known Good Die)は、パッケージ前のベアダイ状態で「良品であることが保証されたチップ」のこと。1個でも不良ダイが混ざると積層パッケージ全体が廃棄になるため、HBM・チップレット時代の歩留まり経済を支える最重要概念となった。KGDとは何... -
製造プロセス|どう作るか
バーンインとは?初期不良をあぶり出す高温・高電圧スクリーニング試験【2026年版】
結論:バーンインは、チップに高温・高電圧ストレスを意図的に加え、初期不良(乳児死亡率的故障)を出荷前にあぶり出すスクリーニング試験。車載・サーバー・HBMなど高信頼性用途で必須となり、ウェーハレベルバーンインのAehr Test Systemsやバーンイン... -
製造プロセス|どう作るか
プローブカードとは?FormFactor・日本マイクロニクスが競うウェーハテストの要【2026年版】
結論:プローブカードは、ウェーハ上のチップに数千〜数十万本の針を接触させて電気検査する消耗品的治具。製品ごとに専用設計されるカスタム品で、FormFactor・Technoprobe・日本電子材料・日本マイクロニクスが主要プレーヤー。HBM・AI半導体の検査需要... -
製造プロセス|どう作るか
パッケージ基板・ABF基板とは?イビデン・新光電気が握るAI半導体の土台【2026年版】
結論:パッケージ基板はチップとマザーボードをつなぐ多層配線基板で、高性能品には味の素のABFフィルムを絶縁材に使うABF基板が用いられる。イビデン・新光電気工業・AT&S・Unimicronが主要メーカーで、AI半導体の大型化により高層・大判基板の供給力が競... -
製造プロセス|どう作るか
TCB(熱圧着ボンディング)とは?HBM積層量産を支えるチップ接合技術【2026年版】
結論:TCB(Thermo-Compression Bonding:熱圧着ボンディング)は、チップを加熱・加圧しながら高精度に積み上げる接合技術。HBMのDRAM積層の量産を支える現在の主力工法で、装置はASMPT・BESI・新川(ヤマハロボティクス)などが競う。ハイブリッドボンデ... -
製造プロセス|どう作るか
SiP(System in Package)とは?複数チップを1つに集積するモジュール化技術【2026年版】
結論:SiP(System in Package)は、プロセッサ・メモリ・センサ・受動部品など複数の異種チップを1つのパッケージに集積し「システム」として完成させる技術。Apple WatchのSiPが代表例で、ASE(日月光)が受託で世界をリードする。チップレット時代の上... -
製造プロセス|どう作るか
アンダーフィルとは?フリップチップの寿命を決める補強樹脂【2026年版】
結論:アンダーフィルは、フリップチップのバンプ接続部の隙間に流し込む補強樹脂。チップと基板の熱膨張差によるバンプ疲労破壊を防ぎ、パッケージの寿命を決定づける。ナミックス・レゾナックなど日系材料メーカーが高シェアを持つ隠れた要素技術だ。ア... -
製造プロセス|どう作るか
モールディング(封止)とは?TOWA・住友ベークライトが支えるチップ保護工程【2026年版】
結論:モールディング(封止)は、チップとワイヤ・バンプを樹脂で覆い、湿気・衝撃・光から保護する工程。エポキシ封止材(EMC)は住友ベークライト・レゾナック・京セラなど日本勢が世界シェアの大半を握り、装置はTOWAが圧縮成形でリードする。モールデ... -
製造プロセス|どう作るか
バックグラインディングとは?ウェーハを30μm台まで薄くする研削工程【2026年版】
結論:バックグラインディングは、ウェーハの裏面を研削して厚さを数百μmから数十μm(HBM用途では30μm台)まで薄くする工程。チップ積層時代の必須技術であり、研削装置はディスコ・東京精密の日本2強が支配。薄くなるほど割れやすく、搬送・保護技術が価...