製造プロセス|どう作るか– category –
製造プロセス|どう作るかでは、原料からシリコンウェハを作り、微細なトランジスタと多層配線を形成し、パッケージへ仕上げるまでの半導体製造工程を俯瞰します。前工程では、洗浄、酸化、成膜、フォトリソグラフィ、エッチング、イオン注入、アニール、CMP、配線形成を整理。後工程では、ウェハテスト、ダイシング、ボンディング、モールド、パッケージ検査までを紹介します。各工程で使われる装置、材料、薬液、ガス、計測技術と、CD、オーバーレイ、欠陥、歩留まり、スループットなどの管理指標も解説。FEOL・MOL・BEOLのつながりや、微細化・3D化で増える工程数と難しさを理解し、半導体がどのように量産されるのかを基礎から学べるカテゴリーです。工程ごとの目的と前後関係を図解的に捉えられるようにし、ニュースに登場する先端プロセス技術も基本工程とのつながりから説明します。
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前工程・ウェハプロセス
KrFリソグラフィとは?248nm露光が成熟ノードを支える仕組みと用途を解説
KrFリソグラフィは、波長248nmのクリプトンフッ素エキシマレーザーを光源に使う露光技術です。ArFやEUVより古い世代ですが、成熟ノード、メモリの一部レイヤー、パワー半導体、各種周辺回路で現在も広く利用されています。 -
前工程・ウェハプロセス
ペリクルとは?フォトマスクを異物から守る薄膜とEUVでの課題を解説
ペリクルは、フォトマスクやレチクルの表面から一定距離を置いて張る透明な保護膜です。異物がマスク面へ直接付着するのを防ぎ、付着物を投影光学系の焦点から外すことでウェハへの欠陥転写を抑えます。 -
前工程・ウェハプロセス
半導体の露光とは?フォトリソグラフィで回路パターンを転写する仕組みを解説
露光は、フォトレジストを塗布したウェハへ光を照射し、フォトマスクやレチクル上の回路パターンを転写する工程です。半導体の線幅と位置精度を決めるフォトリソグラフィの中心工程で、KrF、ArF、EUVなどの光源が世代に応じて使い分けられます。 -
製造プロセス|どう作るか
DFT(テスト容易化設計)とは?数十億トランジスタを検査可能にする設計技術【2026年版】
結論:DFT(Design for Test:テスト容易化設計)は、製造後のチップを検査しやすくするために、設計段階からテスト回路を組み込む技術。スキャンチェーン・BIST・圧縮などの手法で、数十億トランジスタの良否を現実的な時間で判定可能にする。テストコス... -
製造プロセス|どう作るか
High-NA EUVとは?1台5億ユーロ・ASML独占の次世代露光装置【2026年版】
結論:High-NA EUVは、レンズの開口数(NA)を0.33から0.55へ高めた次世代EUV露光装置。1nm台のロジックノードに必須とされ、1台約5億ユーロとされる史上最高額の製造装置だ。ASMLが独占供給し、Intelが世界初導入で先行、TSMC・Samsungが追随の構図となっ... -
製造プロセス|どう作るか
SLT(システムレベルテスト)とは?AI半導体で急拡大する実動作テスト【2026年版】
結論:SLT(System Level Test)は、チップを実際の製品と同等の環境に載せてOS起動や実アプリ動作を確認する「実使用条件テスト」。ATEでは捕捉できない不具合を検出する最後の網として、スマホAP・AI半導体で標準化が進み、テスト市場で最も成長率の高い... -
製造プロセス|どう作るか
テストハンドラとは?チップを高速搬送・温度制御するテスト自動化装置【2026年版】
結論:テストハンドラは、ファイナルテストでチップを高速搬送し、テストソケットへの着脱と温度制御を行う自動化装置。テスタと対で導入され、Cohu・Advantest・TechWing・エポック等が競う。−55℃〜175℃の温度印加と毎時数万個の処理能力が競争軸だ。テス... -
製造プロセス|どう作るか
ファイナルテストとは?出荷前最後の関門となるパッケージ品全数検査【2026年版】
結論:ファイナルテスト(FT)は、パッケージ完成後の半導体を製品として最終検査する出荷前最後の関門。テスタ・ハンドラ・テストソケットで構成され、OSATやテスト専業ハウスが大量処理を担う。AI半導体ではSLT(システムレベルテスト)追加でテスト工程... -
製造プロセス|どう作るか
ウェーハテスト(CP)とは?ダイシング前に不良ダイを選別する検査工程【2026年版】
結論:ウェーハテスト(CP:Circuit Probing/プローブテスト)は、ダイシング前のウェーハ状態で全チップの電気検査を行い、不良ダイを特定する工程。プローバは東京精密・東京エレクトロンが供給し、テスタ・プローブカードと三位一体で「テストセル」を...