企業ニュース– category –

結論：2026年4月16日、米議会で中国向け半導体製造装置規制法案「MATCH Act」の修正案が議論された。ASMLのDUV（ArF液浸）露光装置への追加制限が焦点となっており、SMIC・Hua Hong・CXMT・YMTCなどが規制対象候補として挙がっている。規制が強化されれば...