Dongjin Semichem企業分析｜EUV対応韓国フォトレジスト

この記事のポイント：Dongjin Semichem（東進セミケム、韓国・コスピ上場）は1984年に韓国初・世界第4位のフォトレジストメーカーとして参入した韓国を代表する半導体材料企業。KrF・ArF・EUVフォトレジストと現像液・ストリッパ・CMP スラリー・半導体グレード硫酸を提供し、Samsung・SK Hynixの主要サプライヤー。2025年Samsung Foundry 3nmへEUVフォトレジスト供給を開始、売上高は直近12ヶ月で約1,040億円（$1.04B）に達する。

フォトレジストとは何か・なぜ重要か

フォトレジストは半導体ウェハ上に塗布され、光（ArF: 193nm・EUV: 13.5nm）を当てた部分だけ化学反応で溶解性が変化する感光材料だ。これによりウェハ上に極微細なパターンを転写（リソグラフィ）する工程の根幹を担う。半導体の微細化（3nm→2nm→Å世代）はフォトレジストの性能向上なしには不可能であり、フォトレジストは半導体製造の「隠れた心臓部」とも言える素材だ。

ポイント：EUVフォトレジストは波長13.5nmの極端紫外線に対応した最先端材料だ。Dongjin Semichem は2021年にEUVフォトレジスト開発に成功し、2025年にはSamsung Foundry 3nmラインへの商業供給を開始。高NA EUV（2nm以下）向けも開発中で、次世代ノードへの技術対応力を証明している。

主要製品・事業領域

① EUV・ArFフォトレジスト（最先端リソグラフィ材料）

Dongjin SemichemのKrF・ArF・EUVフォトレジストはSamsung・SK HynixのDRAM・NAND・ロジックの各製造ラインに採用されている。特にEUVフォトレジストは2025年Samsung Foundry 3nmへの商業供給スタートとSK Hynix向けの高性能EUV PR共同開発によって、先端ノードへの本格展開が確認されている。

② 現像液（TMAH）・剥離液・エッチング液

フォトレジスト露光後の現像（テトラメチルアンモニウムヒドロキシド：TMAH）・不要レジストの除去（剥離）・各種エッチング液も主力製品群だ。これらの「ウェットケミカル」製品は消耗品として半導体ファブが常時購入する安定収益源であり、Dongjin Semichem売上の相当部分を構成する。

③ CMPスラリー・半導体グレード硫酸

CMP（化学機械研磨）工程で使われる研磨スラリーと、洗浄工程の半導体グレード高純度硫酸も展開する。素材ポートフォリオの多角化により、単一製品依存リスクを低減する経営戦略をとっている。

地政学・サプライチェーン分散の視点

EUVフォトレジスト市場はこれまで日本（JSR・信越化学・東京応化工業）と米国（Dow）が支配してきた。韓国政府の半導体素材国産化政策（2019年日韓貿易摩擦を契機）を追い風に、DongjinはSamsung・SK Hynixとの協業でEUVフォトレジストの「韓国内調達率向上」という地政学的ニーズに応えるサプライヤーとして確固たる地位を築いている。

投資・M&A視点での評価

Dongjin Semichem（KOSPI上場）は売上$1B超の半導体材料企業として、EUVリソグラフィのさらなる普及（Samsung・SK Hynix・TSMCへの拡大）で中長期の成長余地が大きい。高NA EUV（2nm以下）向けフォトレジスト開発の成功いかんで、次世代ノードの主要サプライヤーとして一段階上の評価を受けられる可能性がある。詳細は半導体業界の全体構造を読むも参照。

※本記事は公開情報をもとに作成した分析・解説記事です。投資判断等の根拠として使用する場合は、必ず一次情報をご確認ください。情報は執筆時点のものであり、最新状況とは異なる場合があります。

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