半導体用語集– category –

結論：ArF液浸リソグラフィは、ArFレーザー（193nm）と液浸（水）を組み合わせてNA=1.35を実現した露光技術。EUVが普及する前の7〜20nmノードを支えたコア技術で、現在もレガシーノードの主力として現役だ。 […]

結論：SECS/GEMとは半導体製造装置と上位システム（MES）の通信を標準化したSEMI国際規格プロトコル。多ベンダー混在環境の工場でも設備間データ収集・制御を一元化でき、APC・FDC・スマートファブの基盤技術だ。 […]

この記事の要点EM耐性・RC遅延の仕組み、用途、関連工程を整理します。比較では、電気特性、膜・構造品質、微細化対応、信頼性、歩留まり、量産コストを確認します。関連企業、市場の金額、企業分析の観点まで解説します。結論：EM耐性（エレクトロマイグ...

結論：スキャナー（露光装置）は、フォトマスクのパターンを縮小投影してウェーハに焼き付ける半導体前工程の核心装置。ASML・Canon・Nikonが競合するが、EUV機はASMLが世界で唯一の供給元として独占する。 スキャ […]

この記事の要点電解めっきの仕組み、用途、関連工程を整理します。比較では、性能、消費電力、信頼性、歩留まり、量産コスト、供給能力を確認します。関連企業、市場の金額、企業分析の観点まで解説します。結論：電解めっきは、電気化学反応を利用してCu...

この記事の要点成膜・エッチングなどに必要な低圧環境を作り、排気を担うサブファブ機器です。比較では、到達圧力、排気速度、耐食性、消費電力、保守間隔を確認します。関連企業、市場の金額、実務・企業分析の観点まで整理します。結論：真空ポンプは、C...

この記事の要点光学・電子線でウェーハ上の欠陥を検出し、歩留まり改善につなげる工程です。比較では、検出感度、スループット、擬似欠陥率、レビュー連携、対象工程を確認します。代表企業、市場の金額、企業分析の見方まで整理します。 結論：欠陥検査は...

この記事の要点生産計画と装置実績をつなぎ、ロット・レシピ・品質・履歴を管理するシステムです。比較では、トレーサビリティ、装置連携、停止時間、データ粒度、可用性を確認します。関連企業、市場の金額、実務・企業分析の観点まで整理します。結論：M...

この記事の要点電子線で回路パターンの寸法を測定し、工程変動を管理する計測技術です。比較では、寸法再現性、測定速度、帯電・損傷、レシピ、統計管理を確認します。代表企業、市場の金額、企業分析の見方まで整理します。 結論：CD-SEM（Critical Dimen...