製造プロセス|どう作るか– category –
製造プロセス|どう作るかでは、原料からシリコンウェハを作り、微細なトランジスタと多層配線を形成し、パッケージへ仕上げるまでの半導体製造工程を俯瞰します。前工程では、洗浄、酸化、成膜、フォトリソグラフィ、エッチング、イオン注入、アニール、CMP、配線形成を整理。後工程では、ウェハテスト、ダイシング、ボンディング、モールド、パッケージ検査までを紹介します。各工程で使われる装置、材料、薬液、ガス、計測技術と、CD、オーバーレイ、欠陥、歩留まり、スループットなどの管理指標も解説。FEOL・MOL・BEOLのつながりや、微細化・3D化で増える工程数と難しさを理解し、半導体がどのように量産されるのかを基礎から学べるカテゴリーです。工程ごとの目的と前後関係を図解的に捉えられるようにし、ニュースに登場する先端プロセス技術も基本工程とのつながりから説明します。
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テスト・検査・計測
SPCとは?半導体テスト・検査・計測における仕組み・評価方法・管理ポイントを解説
SPCはStatistical Process Controlの略で、統計的に工程変動を監視し異常を早期検出する管理手法です。 -
テスト・検査・計測
ビニングとは?半導体テスト・検査・計測における仕組み・評価方法・管理ポイントを解説
ビニングは、テスト結果に基づいて半導体を良品等級、不良種別、速度、消費電力などのグループへ分類する処理です。 -
テスト・検査・計測
スクリーニングとは?半導体テスト・検査・計測における仕組み・評価方法・管理ポイントを解説
スクリーニングは、潜在不良や規格外品を出荷前に除去するため、温度・電圧・機械ストレスと試験を組み合わせる選別です。 -
テスト・検査・計測
ウェハマップとは?半導体テスト・検査・計測における仕組み・評価方法・管理ポイントを解説
ウェハマップは、ウェハ上のダイ座標ごとに良否、ビン、測定値、欠陥情報を記録・表示するデータです。 -
テスト・検査・計測
IV測定とは?半導体テスト・検査・計測における仕組み・評価方法・管理ポイントを解説
IV測定は、半導体へ電圧を印加し流れる電流を測定して導通、リーク、しきい値、耐圧を評価する基本計測です。 -
テスト・検査・計測
CV測定とは?半導体テスト・検査・計測における仕組み・評価方法・管理ポイントを解説
CV測定は、電圧に対する容量変化からMOS構造、接合、誘電膜、ドーピング特性を評価する計測です。 -
テスト・検査・計測
パラメトリックテストとは?半導体テスト・検査・計測における仕組み・評価方法・管理ポイントを解説
パラメトリックテストは、ウェハ上のテスト構造でトランジスタ、配線、抵抗、容量、接合の工程特性を測る試験です。 -
テスト・検査・計測
XRFとは?半導体テスト・検査・計測における仕組み・評価方法・管理ポイントを解説
XRFは蛍光X線分析法で、X線照射により発生する元素固有の蛍光X線から組成・膜厚を測定します。 -
テスト・検査・計測
リーク検査とは?半導体テスト・検査・計測における仕組み・評価方法・管理ポイントを解説
リーク検査は、パッケージ、真空部品、配管、チャンバーなどの密封性と漏れ量を確認する検査です。