製造プロセス|どう作るか– category –
製造プロセス|どう作るかでは、原料からシリコンウェハを作り、微細なトランジスタと多層配線を形成し、パッケージへ仕上げるまでの半導体製造工程を俯瞰します。前工程では、洗浄、酸化、成膜、フォトリソグラフィ、エッチング、イオン注入、アニール、CMP、配線形成を整理。後工程では、ウェハテスト、ダイシング、ボンディング、モールド、パッケージ検査までを紹介します。各工程で使われる装置、材料、薬液、ガス、計測技術と、CD、オーバーレイ、欠陥、歩留まり、スループットなどの管理指標も解説。FEOL・MOL・BEOLのつながりや、微細化・3D化で増える工程数と難しさを理解し、半導体がどのように量産されるのかを基礎から学べるカテゴリーです。工程ごとの目的と前後関係を図解的に捉えられるようにし、ニュースに登場する先端プロセス技術も基本工程とのつながりから説明します。
-
製造プロセス|どう作るか
AMHS・OHTとは?半導体工場の無人搬送システムをわかりやすく解説【2026年版】
結論:AMHS(Automated Material Handling System)は半導体工場でウェーハキャリア(FOUP)を自動搬送するシステム全体を指し、OHT(Overhead Hoist Transport)は天井走行型の自動搬送台車。工場の稼働率・スループット・品質を左右する重要インフラだ。... -
製造プロセス|どう作るか
CMPとは?半導体の多層配線を可能にする化学機械研磨プロセス【2026年版】
結論:CMP(Chemical Mechanical Planarization:化学機械研磨)は、研磨パッドとスラリーを使ってウェーハ表面を化学的・機械的に研磨して平坦化する技術。多層配線・STI・銅ダマシンプロセスに必須で、Applied Materials・LAM Research・TELが装置市場を... -
製造プロセス|どう作るか
レジスト塗布・現像とは?フォトリソグラフィを支える感光材料工程【2026年版】
結論:レジスト塗布はウェーハ表面に光感応性樹脂(フォトレジスト)を均一塗布する工程、現像は露光後のレジストを薬液で選択的に溶解してパターンを形成する工程。フォトリソグラフィの最初と最後を担う重要工程だ。 フォトレジストとは フォトレジスト... -
製造プロセス|どう作るか
APCとは?半導体製造のプロセスを自動最適化するAdvanced Process Control【2026年版】
結論:APC(Advanced Process Control)とは、半導体製造の計測データを統計的にフィードバック/フィードフォワードして、プロセスパラメータを自動補正するシステム。歩留まり改善と均一性確保の核で、露光・CMP・エッチングなど多くの工程に適用される。... -
製造プロセス|どう作るか
低k膜(Low-k誘電体)とは?Cu配線のRC遅延を下げる層間絶縁膜技術【2026年版】
結論:低k膜(Low-k誘電体)は層間絶縁膜(ILD)の誘電率kを下げてRC遅延と消費電力を低減する材料技術。7nm以降の先端ノードでは多孔質Low-k(k≈2.0以下)やエアギャップ構造が必須となり、成膜・CMP・信頼性の管理が高度化している。 低k膜が必要な理由 ... -
製造プロセス|どう作るか
FDCとは?半導体工場の異常を自動検知・分類するシステム【2026年版】
結論:FDC(Fault Detection and Classification)とは、半導体製造装置のリアルタイムデータを監視して異常を自動検知・分類するシステム。歩留まり損失の早期発見と装置ダウンタイム削減の要で、KLA・Applied Materials・Onto Innovationが主要プレイヤ... -
製造プロセス|どう作るか
ウェットエッチング・洗浄とは?半導体製造の「汚れ落とし」工程の仕組み【2026年版】
結論:ウェットエッチングは薬液でウェーハ表面を選択的に溶解・除去する技術、洗浄は工程間のパーティクル・汚染を除去するプロセス。等方性エッチングの特性から微細パターン形成には不向きだが、洗浄工程は前工程全体で100ステップ以上を占める最頻工程... -
製造プロセス|どう作るか
ArF液浸リソグラフィとは?EUV前夜を支えたナノ露光技術の仕組み【2026年版】
結論:ArF液浸リソグラフィは、ArFレーザー(193nm)と液浸(水)を組み合わせてNA=1.35を実現した露光技術。EUVが普及する前の7〜20nmノードを支えたコア技術で、現在もレガシーノードの主力として現役だ。 ArF液浸リソグラフィとは 通常のArF露光(ドラ... -
製造プロセス|どう作るか
SECS/GEMとは?半導体工場の設備通信を支える国際標準プロトコル【2026年版】
結論:SECS/GEMとは半導体製造装置と上位システム(MES)の通信を標準化したSEMI国際規格プロトコル。多ベンダー混在環境の工場でも設備間データ収集・制御を一元化でき、APC・FDC・スマートファブの基盤技術だ。 SECS/GEMとは何か SECS(SEMI Equipment C...