製造プロセス|どう作るか– category –
製造プロセス|どう作るかでは、原料からシリコンウェハを作り、微細なトランジスタと多層配線を形成し、パッケージへ仕上げるまでの半導体製造工程を俯瞰します。前工程では、洗浄、酸化、成膜、フォトリソグラフィ、エッチング、イオン注入、アニール、CMP、配線形成を整理。後工程では、ウェハテスト、ダイシング、ボンディング、モールド、パッケージ検査までを紹介します。各工程で使われる装置、材料、薬液、ガス、計測技術と、CD、オーバーレイ、欠陥、歩留まり、スループットなどの管理指標も解説。FEOL・MOL・BEOLのつながりや、微細化・3D化で増える工程数と難しさを理解し、半導体がどのように量産されるのかを基礎から学べるカテゴリーです。工程ごとの目的と前後関係を図解的に捉えられるようにし、ニュースに登場する先端プロセス技術も基本工程とのつながりから説明します。
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テスト・検査・計測
スキャンチェーンとは?半導体テスト・検査・計測における仕組み・評価方法・管理ポイントを解説
スキャンチェーンは、フリップフロップを直列接続して内部状態を外部から設定・観測可能にするDFT構造です。 -
テスト・検査・計測
テストソケットとは?半導体テスト・検査・計測における仕組み・評価方法・管理ポイントを解説
テストソケットは、パッケージ済み半導体をテスタへ一時的に電気接続する交換可能な接触部品です。 -
テスト・検査・計測
プローバとは?半導体テスト・検査・計測における仕組み・評価方法・管理ポイントを解説
プローバは、ウェハ上の各ダイへプローブカードを正確に接触させ、ウェハテストを自動実行する装置です。 -
後工程・組立・パッケージ
光インターコネクトとは?半導体後工程・パッケージにおける仕組み・課題・評価方法を解説
光インターコネクトは、電気信号の代わりに光を使ってチップ間・ボード間・装置間でデータを伝送する接続技術です。 -
後工程・組立・パッケージ
ガラス基板とは?半導体後工程・パッケージにおける仕組み・課題・評価方法を解説
ガラス基板は、低反り、寸法安定性、電気特性を生かして次世代パッケージ基板やインターポーザへ応用される材料です。 -
後工程・組立・パッケージ
EMIBとは?半導体後工程・パッケージにおける仕組み・課題・評価方法を解説
EMIBはIntelが開発した、パッケージ基板内へ小型シリコンブリッジを埋め込み、隣接ダイを高密度接続する2.5D技術です。 -
後工程・組立・パッケージ
シリコンインターポーザとは?半導体後工程・パッケージにおける仕組み・課題・評価方法を解説
シリコンインターポーザは、微細配線とTSVを形成したシリコン中間基板で、複数ダイを高密度接続します。 -
後工程・組立・パッケージ
PCBAとは?半導体後工程・パッケージにおける仕組み・課題・評価方法を解説
PCBAはPrinted Circuit Board Assemblyの略で、プリント基板へ半導体や受動部品を実装・はんだ付けした組立基板です。 -
後工程・組立・パッケージ
リワークとは?半導体後工程・パッケージにおける仕組み・課題・評価方法を解説
リワークは、不良または仕様変更となった部品を基板やパッケージから取り外し、再実装して修復する作業です。