半導体用語集– category –
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半導体用語集
High-NA EUVとは?1台5億ユーロ・ASML独占の次世代露光装置【2026年版】
この記事の要点開口数を高めてEUV露光の解像力を向上させる次世代リソグラフィ技術です。比較では、NA、解像度、露光フィールド、重ね合わせ、スループット、導入費を確認します。関連企業、市場の金額、実務・企業分析の観点まで整理します。結論:High-N... -
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静電チャック(ESC)とは?ウェーハを吸着・温調する日本勢が強い中核部品【2026年版】
この記事の要点静電力でウェーハを固定し、処理中の位置と温度を安定させる装置部品です。比較では、吸着力、温度均一性、パーティクル、耐プラズマ性、寿命を確認します。代表企業、市場の金額、実務・企業分析の視点まで整理します。結論:静電チャック... -
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マスフローコントローラ(MFC)とは?堀場エステックが世界6割を握るガス流量制御【2026年版】
この記事の要点プロセスガス流量を高精度に測定・制御する装置部品です。比較では、流量精度、応答性、ガス種、ゼロドリフト、耐腐食性を確認します。関連企業、市場の金額、実務・企業分析の観点まで整理します。結論:マスフローコントローラ(MFC)は、... -
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スパッタリングターゲットとは?JX金属が世界を握る超高純度金属の消耗品ビジネス【2026年版】
この記事の要点スパッタリングターゲットの仕組み、用途、関連工程を整理します。比較では、性能、消費電力、信頼性、歩留まり、量産コスト、供給能力を確認します。関連企業、市場の金額、企業分析の観点まで解説します。結論:スパッタリングターゲット... -
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プリカーサ(前駆体)とは?ALD・CVD薄膜の原料となる高付加価値材料【2026年版】
この記事の要点ALD・CVDで薄膜の元素を供給する揮発性の原料化学物質です。比較では、蒸気圧、熱安定性、反応性、不純物、容器、供給網を確認します。関連企業、市場の金額、実務・企業分析の観点まで整理します。結論:プリカーサ(前駆体)は、ALD・CVD... -
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クリーンルームとは?ファブ投資の3割を占める超清浄空間の構造と経済性【2026年版】
この記事の要点粒子・温湿度・分子汚染を管理して半導体製造を成立させる清浄環境です。比較では、清浄度、換気、温湿度、AMC、エネルギー消費、運用費を確認します。関連企業、市場の金額、実務・企業分析の観点まで整理します。結論:クリーンルームは、... -
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FOUP・EFEMとは?ウェーハを密閉搬送する半導体工場の標準インフラ【2026年版】
結論:FOUP(フープ)は300mmウェーハ25枚を密閉搬送するカセット、EFEM(イーフェム)はFOUPから装置へウェーハを受け渡す搬送モジュール。工場内のミニエンバイロメント方式を支える標準インフラで、FOUPはエン […] -
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特殊ガスとは?成膜・エッチングを支える高純度材料ガスと供給網の地政学【2026年版】
結論:特殊ガス(スペシャリティガス)は、成膜・エッチング・洗浄・ドーピングに使う高純度の反応性ガス群。純度99.999%以上が標準で、エア・リキード、リンデ、日本の大陽日酸・レゾナック・関東電化・セントラル硝子などが供給 […] -
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CMPスラリー・パッドとは?Entegris・フジミ・デュポンが握る研磨消耗品【2026年版】
この記事の要点化学反応と機械研磨を組み合わせ、ウェーハ表面を平坦化する消耗材料です。比較では、除去速度、選択比、欠陥、パッド寿命、工程別レシピを確認します。代表企業、市場の金額、企業分析の見方まで整理します。 結論:CMPスラリーとパッドは...