製造プロセス|どう作るか– category –
製造プロセス|どう作るかでは、原料からシリコンウェハを作り、微細なトランジスタと多層配線を形成し、パッケージへ仕上げるまでの半導体製造工程を俯瞰します。前工程では、洗浄、酸化、成膜、フォトリソグラフィ、エッチング、イオン注入、アニール、CMP、配線形成を整理。後工程では、ウェハテスト、ダイシング、ボンディング、モールド、パッケージ検査までを紹介します。各工程で使われる装置、材料、薬液、ガス、計測技術と、CD、オーバーレイ、欠陥、歩留まり、スループットなどの管理指標も解説。FEOL・MOL・BEOLのつながりや、微細化・3D化で増える工程数と難しさを理解し、半導体がどのように量産されるのかを基礎から学べるカテゴリーです。工程ごとの目的と前後関係を図解的に捉えられるようにし、ニュースに登場する先端プロセス技術も基本工程とのつながりから説明します。
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製造プロセス|どう作るか
OCD計測とは?光学式寸法測定の原理・モデル解析・用途を解説
OCDは、半導体の性能、歩留まり、製造コストを理解するうえで重要な用語です。OCD(Optical Critical Dimension)は、パターンからの反射・回折光を解析し、線幅、高さ、側壁角、膜厚を非破壊で推定する計測技術です。 本記事では「半導体 用語」「半導体 ... -
製造プロセス|どう作るか
イオンインプランタとは?装置構成・注入条件・半導体用途を解説
イオンインプランタは、半導体の性能、歩留まり、製造コストを理解するうえで重要な用語です。イオンインプランタは、ドーパント原子をイオン化・加速し、質量分離してウェハへ注入する装置です。 本記事では「半導体 用語」「半導体 基礎」を調べる方に向... -
製造プロセス|どう作るか
LWRとは?ライン幅ラフネスの原因・測定・デバイス影響を解説
LWRは、半導体の性能、歩留まり、製造コストを理解するうえで重要な用語です。LWR(Line Width Roughness)は、レジストや加工後パターンの線幅が線方向に揺らぐばらつきです。LERは片側エッジの揺らぎを表します。 本記事では「半導体 用語」「半導体 基... -
製造プロセス|どう作るか
CMPエンドポイントとは?終点検出の方式・過研磨・均一性管理を解説
CMPエンドポイントは、半導体の性能、歩留まり、製造コストを理解するうえで重要な用語です。CMPエンドポイントは、研磨対象膜が所定厚さまたは下地到達に達した時点を検出し、研磨を停止する判断点です。 本記事では「半導体 用語」「半導体 基礎」を調べ... -
製造プロセス|どう作るか
e-beam検査とは?電子ビーム欠陥検査の原理・用途・課題を解説
e-beam検査は、半導体の性能、歩留まり、製造コストを理解するうえで重要な用語です。e-beam検査は、細く絞った電子線をウェハへ走査し、二次電子や反射電子の信号から微小欠陥や電位差異常を検出する方法です。 本記事では「半導体 用語」「半導体 基礎」... -
品質・歩留まり・信頼性
半導体の信頼性評価とは?試験計画・加速モデル・製品認定を解説
信頼性評価(Semiconductor Reliability Evaluation)は、製品が想定する使用環境と期間で機能・性能を維持できるかを、故障物理、加速試験、統計解析で検証する活動です。半導体では、製造直後に動くだけでなく、想定する環境と期間にわたり性能を維持す... -
品質・歩留まり・信頼性
ソフトエラーとは?放射線によるSEU・SER・対策技術を解説
ソフトエラー(Soft Error / Single Event Upset)は、放射線粒子などで回路状態やメモリビットが一時的に反転するものの、デバイス自体には永久損傷を残さない誤動作です。半導体では、製造直後に動くだけでなく、想定する環境と期間にわたり性能を維持す... -
品質・歩留まり・信頼性
FIT・MTBFとは?半導体の故障率・信頼性指標・計算方法を解説
FIT・MTBF(Failures In Time / Mean Time Between Failures)は、FITは10億デバイス時間当たりの故障数、MTBFは修理可能系で故障から次の故障までの平均時間を表す信頼性指標です。半導体では、製造直後に動くだけでなく、想定する環境と期間にわたり性能... -
品質・歩留まり・信頼性
ラッチアップとは?CMOSの寄生SCR・試験方法・設計対策を解説
ラッチアップ(CMOS Latch-up)は、CMOS内の寄生PNP・NPN構造がSCRとして導通し、電源とグランド間に低抵抗の大電流経路が維持される現象です。半導体では、製造直後に動くだけでなく、想定する環境と期間にわたり性能を維持することが必要です。本記事で...