製造プロセス|どう作るか– category –
製造プロセス|どう作るかでは、原料からシリコンウェハを作り、微細なトランジスタと多層配線を形成し、パッケージへ仕上げるまでの半導体製造工程を俯瞰します。前工程では、洗浄、酸化、成膜、フォトリソグラフィ、エッチング、イオン注入、アニール、CMP、配線形成を整理。後工程では、ウェハテスト、ダイシング、ボンディング、モールド、パッケージ検査までを紹介します。各工程で使われる装置、材料、薬液、ガス、計測技術と、CD、オーバーレイ、欠陥、歩留まり、スループットなどの管理指標も解説。FEOL・MOL・BEOLのつながりや、微細化・3D化で増える工程数と難しさを理解し、半導体がどのように量産されるのかを基礎から学べるカテゴリーです。工程ごとの目的と前後関係を図解的に捉えられるようにし、ニュースに登場する先端プロセス技術も基本工程とのつながりから説明します。
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製造プロセス|どう作るか
OCD計測とは?光学式寸法測定の原理・モデル解析・用途を解説
この記事の要点OCD計測の仕組み、用途、関連工程を整理します。比較では、検出感度、測定再現性、処理速度、欠陥分類、工程フィードバックを確認します。関連企業、市場の金額、企業分析の観点まで解説します。OCDは、半導体の性能、歩留まり、製造コスト... -
製造プロセス|どう作るか
イオンインプランタとは?装置構成・注入条件・半導体用途を解説
この記事の要点不純物イオンを加速し、所定の深さと濃度でウェーハへ注入する装置です。比較では、エネルギー、ドーズ量、均一性、汚染、スループットを確認します。代表企業、市場の金額、実務・企業分析の視点まで整理します。イオンインプランタは、半... -
製造プロセス|どう作るか
LWRとは?ライン幅ラフネスの原因・測定・デバイス影響を解説
LWRは、半導体の性能、歩留まり、製造コストを理解するうえで重要な用語です。LWR(Line Width Roughness)は、レジストや加工後パターンの線幅が線方向に揺らぐばらつきです。LERは片側エッジの揺らぎを表します。 本記事では「半導体 用語」「半導体 基... -
製造プロセス|どう作るか
CMPエンドポイントとは?終点検出の方式・過研磨・均一性管理を解説
この記事の要点研磨中の膜除去状態を検知し、過研磨や研磨不足を防ぐ終点管理技術です。比較では、検出感度、再現性、膜種、装置内統合、面内均一性を確認します。代表企業、市場の金額、実務・企業分析の視点まで整理します。CMPエンドポイントは、半導体... -
製造プロセス|どう作るか
e-beam検査とは?電子ビーム欠陥検査の原理・用途・課題を解説
この記事の要点e-beam検査の仕組み、用途、関連工程を整理します。比較では、性能、消費電力、信頼性、歩留まり、量産コスト、供給能力を確認します。関連企業、市場の金額、企業分析の観点まで解説します。e-beam検査は、半導体の性能、歩留まり、製造コ... -
品質・歩留まり・信頼性
半導体の信頼性評価とは?試験計画・加速モデル・製品認定を解説
この記事の要点製品寿命と使用環境への耐性を加速試験で確認し、出荷認定につなげる活動です。比較では、試験条件、加速モデル、サンプル数、故障解析、規格を確認します。関連企業、市場の金額、実務・企業分析の観点まで整理します。信頼性評価(Semicon... -
品質・歩留まり・信頼性
ソフトエラーとは?放射線によるSEU・SER・対策技術を解説
ソフトエラー(Soft Error / Single Event Upset)は、放射線粒子などで回路状態やメモリビットが一時的に反転するものの、デバイス自体には永久損傷を残さない誤動作です。半導体では、製造直後に動くだけでなく、想定する環境と期間にわたり性能を維持す... -
品質・歩留まり・信頼性
FIT・MTBFとは?半導体の故障率・信頼性指標・計算方法を解説
この記事の要点FIT・MTBFの仕組み、用途、関連工程を整理します。比較では、性能、消費電力、信頼性、歩留まり、量産コスト、供給能力を確認します。関連企業、市場の金額、企業分析の観点まで解説します。FIT・MTBF(Failures In Time / Mean Time Betwee... -
品質・歩留まり・信頼性
ラッチアップとは?CMOSの寄生SCR・試験方法・設計対策を解説
ラッチアップ(CMOS Latch-up)は、CMOS内の寄生PNP・NPN構造がSCRとして導通し、電源とグランド間に低抵抗の大電流経路が維持される現象です。半導体では、製造直後に動くだけでなく、想定する環境と期間にわたり性能を維持することが必要です。本記事で...