製造プロセス|どう作るか– category –
製造プロセス|どう作るかでは、原料からシリコンウェハを作り、微細なトランジスタと多層配線を形成し、パッケージへ仕上げるまでの半導体製造工程を俯瞰します。前工程では、洗浄、酸化、成膜、フォトリソグラフィ、エッチング、イオン注入、アニール、CMP、配線形成を整理。後工程では、ウェハテスト、ダイシング、ボンディング、モールド、パッケージ検査までを紹介します。各工程で使われる装置、材料、薬液、ガス、計測技術と、CD、オーバーレイ、欠陥、歩留まり、スループットなどの管理指標も解説。FEOL・MOL・BEOLのつながりや、微細化・3D化で増える工程数と難しさを理解し、半導体がどのように量産されるのかを基礎から学べるカテゴリーです。工程ごとの目的と前後関係を図解的に捉えられるようにし、ニュースに登場する先端プロセス技術も基本工程とのつながりから説明します。
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製造プロセス|どう作るか
バリア層・シード層とは?Cu配線形成での役割と成膜技術を解説
、仕組み、半導体製造での用途、管理ポイント、技術動向を基礎から解説します。 -
製造プロセス|どう作るか
CMPのディッシング・エロージョン・スクラッチとは?原因と対策を解説
、仕組み、半導体製造での用途、管理ポイント、技術動向を基礎から解説します。 -
製造プロセス|どう作るか
EDA(Equipment Data Acquisition)とは?装置データ収集と活用を解説
、仕組み、半導体製造での用途、管理ポイント、技術動向を基礎から解説します。 -
製造プロセス|どう作るか
AMCとは?クリーンルームの分子状汚染・発生源・対策を解説
、仕組み、半導体製造での用途、管理ポイント、技術動向を基礎から解説します。 -
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半導体モールドとは?樹脂封止工程・材料・不良対策を解説
この記事の要点チップとワイヤを樹脂で封止し、湿気・衝撃・汚染から保護する後工程です。比較では、充填性、反り、ボイド、熱伝導、密着性、成形時間を確認します。関連企業、市場の金額、実務・企業分析の観点まで整理します。モールドは、半導体の性能... -
製造プロセス|どう作るか
歩留まり解析とは?ウェハマップ・不良モード・改善手順を解説
この記事の要点検査・計測・テストデータから不良分布と原因を特定し、良品率を改善する活動です。比較では、歩留まり、欠陥分布、工程相関、解析速度、再発防止を確認します。関連企業、市場の金額、実務・企業分析の観点まで整理します。歩留まり解析は... -
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半導体の歩留まり改善とは?欠陥低減・工程最適化の進め方を解説
この記事の要点半導体の歩留まり改善の仕組み、用途、関連工程を整理します。比較では、検出感度、測定再現性、処理速度、欠陥分類、工程フィードバックを確認します。関連企業、市場の金額、企業分析の観点まで解説します。歩留まり改善は、半導体の性能... -
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ダブル・トリプルパターニングとは?方式・工程・重ね合わせ課題を解説
ダブル・トリプルパターニングは、半導体の性能、歩留まり、製造コストを理解するうえで重要な用語です。ダブル/トリプルパターニングは、1回の露光で解像できない微細ピッチを複数回の成膜・露光・エッチングで分割して形成する技術です。 本記事では「... -
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レビューSEMとは?欠陥レビュー・分類・歩留まり解析を解説
この記事の要点検査装置が検出した欠陥を高倍率で観察し、種類と原因を分類する電子顕微鏡です。比較では、分解能、レビュー速度、自動分類、座標精度、解析連携を確認します。代表企業、市場の金額、実務・企業分析の視点まで整理します。レビューSEMは、...