装置・材料｜製造を支えるインフラ– category –

結論：アルミナ（Al₂O₃：酸化アルミニウム）セラミックスは、半導体製造装置のチャンバー内で不可欠な絶縁・耐熱・耐腐食材料だ。静電チャック、チャンバーライナー、絶縁リング、ガス分散プレートなどに使用され、京セラ（ファインセラミックス事業本部）...

結論：チャンバーライナーは半導体製造装置のプロセスチャンバー内壁に取り付ける交換可能な内壁保護部品だ。プラズマ・腐食性ガス・高温から装置本体を守り、パーティクル発生を抑制する消耗部品として定期交換が必要だ。石英・アルミナ・イットリア・SiC...

結論：フォトレジストは半導体リソグラフィ（露光）工程でウェハ表面に塗布する感光性樹脂だ。光が当たった部分だけを溶解（または残す）特性を利用して回路パターンを転写する。JSR・東京応化工業・信越化学・住友化学という日本企業4社が世界市場の約70%...

結論：シリコンウェハは半導体チップを製造するための円形のシリコン基板だ。すべての半導体はシリコンウェハ上に製造されるため「半導体産業の土台」といえる。信越化学工業とSUMCOという日本の2社が世界市場の約60%を寡占しており、AI・HBM需要の拡大と...

結論：石英（クォーツ）部品は半導体製造装置のチャンバー内で使われる最重要消耗部品だ。高純度・耐熱・耐腐食・低汚染という特性から、CVD装置・エッチング装置・拡散炉など幅広い工程で使用される。石英部品の品質が半導体の歩留まりを直接左右するため...