半導体構造メディア編集– Author –

結論：半導体製造における流体制御（Fluid Control）とは、成膜・エッチング・洗浄などの工程において、特殊ガスや化学薬液の流量・圧力を分子レベルで緻密にコントロールする技術だ。2nm世代以降の極微細プロセスでは、流体のわずかなブレが歩留まり崩壊...

APS Materials（米国）｜創業50年、Applied Materials DPSチャンバー再生で市場リーダーのプラズマ溶射コーティング企業 結論：APS Materials, Inc.は、1975年創業（2025年で創業50周年）の米国オハイオ州デイトンに本社を置く熱溶射・プラズマ溶射コーテ...

Advanced Piping Products（米国）｜CHIPS法時代の半導体ファブ建設を支えるテキサス発のパイプサポート専門メーカー 結論：Advanced Piping Products, Inc.（略称：APP、appmfg.com）は、1991年創業・米国テキサス州ヒューストンに本社を置くパイプサポー...

AP&S International（ドイツ）｜SiC・GaN対応ウェットプロセス装置で半導体製造を支える1995年創業のニッチトップ企業 結論：AP&S International GmbHは、1995年設立のドイツ・Donaueschingen-Aasen（ドナウエッシンゲン・アーゼン）に本社を置くウェ...

結論：半導体製造におけるプラズマ（Plasma）とは、ウエハ上にナノメートル単位の微細構造を「削る」「積む」「洗浄する」ための中核プロセス技術である。 先端ロジック半導体、3D NAND、SiC/GaNなどの化合物半導体では、プラズマをどれだけ精密に制御でき...

SiCとGaNは何を変えるのか？ 結論：SiC（炭化ケイ素）とGaN（窒化ガリウム）は、半導体の競争軸を「計算性能」から「電力変換効率」へ広げる「ワイドバンドギャップ半導体（Wide-Bandgap Semiconductor：WBG）」だ。AIデータセンター、EV（電気自動車）、...

AP Integration, LLC（米国）｜PVD・PECVD真空装置のリマニュファクチャリングを担う光学薄膜・半導体向けインテグレーター 結論：AP Integration, LLCは、PVD・PECVD真空製造装置のリマニュファクチャリング、レトロフィット、制御システム統合、保守サポ...

AOS Technologies AG（スイス）｜フォトロンが2025年12月買収したハイスピードカメラメーカー 結論：AOS Technologies AGは、スイス・バーデン・デットヴィル（Baden Dättwil）を拠点とする2002年設立のハイスピードカメラ専業メーカーであり、自動車衝突...

アネスト岩田（6381）｜世界初オイルフリースクロール真空ポンプで半導体クリーン真空を支える1926年創業の老舗 結論：アネスト岩田株式会社（証券コード：6381、東証プライム上場）は、1926年（大正15年）創業の日本の老舗産業機械メーカーであり、空気圧...

ANCORP（米国）｜半導体真空チャンバーを支える1965年創業の高真空コンポーネントメーカー 結論：ANCORP（旧社名：A&N Corporation）は、1965年創業・米国フロリダ州ウィリストンに本社を置く家族経営の高真空・超高真空コンポーネントメーカーであり...