結論：レチクル（フォトマスク）は、露光装置がウェハに転写する回路パターンが描かれたガラス基板。EUVレチクルは反射型構造で1枚数百万ドルに達し、AGC・SKCソルミックスなどがマスクブランクスを供給する。
レチクルとは何か
レチクル（Reticle）はフォトマスクとも呼ばれ、石英ガラス基板上に遮光膜（主にクロム）で回路パターンを描いたものだ。露光装置はこのレチクルを「型」として、縮小光学系（通常4〜5倍縮小）でウェハのレジストにパターンを転写する。マスクとレチクルの違いは、「マスク」が1:1（等倍）転写に使う型の総称であるのに対し、「レチクル」は縮小投影露光で使う型（現在の主流）を指す。実務では両者は同義として使われることが多い。
EUVレチクルの特殊性
EUV露光では従来の透過型マスクが使えない。EUV光（13.5nm）はほとんどの物質に吸収されるため、EUVレチクルは反射型（多層膜ミラー構造）となる。MoとSiの薄膜を40〜50層交互に積層した多層膜で光を反射させる構造で、欠陥許容度が極めて小さく製造が難しい。マスクブランクス（素材）はAGC・SKCソルミックスが主要サプライヤーだ。
ペリクルの役割
レチクルに微小パーティクルが付着すると、ウェハ全面に欠陥が転写される。これを防ぐのがペリクル（超薄膜の保護フィルム）だ。ArF用ペリクルは高透過率フッ素系ポリマー膜が標準だが、EUV用ペリクルはポリシリコン薄膜（厚さ50nm以下）で光の吸収を最小化する必要があり、三井化学・旭化成などが開発を進めている。
投資・M&A視点
フォトマスク市場はDNPフォトマスク・凸版フォトマスクなど日本企業も参入。EUVマスクブランクスではAGCが高シェア。EUVレチクル1枚の価格は数百万〜1,000万ドルとも言われ、高品質マスク供給企業は安定した収益基盤を持つ。
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