半導体とは– category –
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製造プロセス|どう作るか
ハイブリッドボンディングとは?HBM・3D積層の限界を突破するCu-Cu直接接合【2026年版】
結論:ハイブリッドボンディングは、はんだバンプを使わずCu(銅)パッド同士を直接接合する次世代チップ接続技術。接続ピッチを10μm以下に微細化でき、TSMCのSoICやHBM4以降の積層で本命視される。装置ではBESIとApplied Materialsの共同開発体制が先行す... -
装置・材料|製造を支えるインフラ
電子とは?半導体で電流が流れる仕組みとキャリアの役割をわかりやすく解説
結論:電子とは、負の電荷を持つ基本粒子であり、半導体では電流を運ぶ主要なキャリアである。電子が価電子帯から伝導帯へ移り、電界によって移動することで電流が生じる。n型半導体やnMOSでは、電子の数と動きやすさがデバイス性能を大きく左右する。 電... -
装置・材料|製造を支えるインフラ
キャリアとは?半導体で電流を運ぶ電子と正孔の仕組みを解説
結論:半導体におけるキャリアとは、電流を運ぶ移動可能な電荷の担い手である。主なキャリアは伝導帯の電子と価電子帯の正孔であり、n型半導体では電子、p型半導体では正孔が多数キャリアになる。キャリア濃度と移動度が、抵抗率、電流、スイッチング速度... -
装置・材料|製造を支えるインフラ
フェルミ準位とは?n型・p型半導体とpn接合を理解する基礎
結論:フェルミ準位とは、物質中で電子がどのエネルギー状態まで存在しやすいかを示す基準である。半導体では、フェルミ準位の位置を見ることで、電子と正孔のどちらが多いか、n型かp型か、接合部でどのような電位差が生じるかを理解できる。 フェルミ準位... -
装置・材料|製造を支えるインフラ
バンドギャップとは?導体・半導体・絶縁体の違いとSi・SiC・GaNを比較
結論:バンドギャップとは、電子が存在する価電子帯と、電流を運べる伝導帯との間にあるエネルギー差である。バンドギャップの大きさによって、材料が導体・半導体・絶縁体のどれに近い性質を持つかが決まり、耐圧、漏れ電流、動作温度、発光波長などにも... -
装置・材料|製造を支えるインフラ
絶縁体とは?半導体で電流を遮断する材料と酸化膜の役割を解説
結論:絶縁体とは、電子が自由に移動しにくく、電流をほとんど流さない物質である。半導体チップでは、トランジスタのゲート絶縁膜、配線間を分離する層間絶縁膜、素子分離膜などに使われる。代表材料は二酸化シリコン、窒化シリコン、酸化ハフニウム、石... -
製造プロセス|どう作るか
導体とは?半導体・絶縁体との違いと電気が流れる仕組みを解説
結論:導体とは、内部に電気を運ぶ自由電子が多く、電流を流しやすい物質である。銅・アルミニウム・銀などの金属が代表例で、半導体チップでは配線、電極、コンタクト、電源供給層などに使われる。導体・半導体・絶縁体の違いは、主にバンド構造と電気抵... -
製品・デバイス|何を作っているか
シリコンにおけるボロン(B)ドーピングと電気抵抗率(ρ)の関係|抵抗率が決まる仕組みをわかりやすく解説
結論:シリコンにボロン(B)をドーピングすると、シリコンはp型半導体となり、ボロン濃度が高くなるほど電気抵抗率(ρ)は低下する。抵抗率はシリコンウェハやインゴットの品質管理における重要指標であり、半導体デバイスの特性・歩留まり・プロセス条件... -
製造プロセス|どう作るか
RISC-Vとは?Armに挑むオープンISAが半導体業界を揺るがす理由【2026年版】
結論:RISC-Vはロイヤリティフリーのオープンソース命令セットアーキテクチャ(ISA)。Arm・x86が支配するプロセッサ市場に新たな選択肢を提供し、IoT・エッジAI・中国の国産半導体推進で急速に採用が広がっている。RISC-Vとは何かRISC-V(リスクファイブ... -
製造プロセス|どう作るか
FPGA・ASICとは?プログラマブルと専用設計——AI時代の半導体選択【2026年版】
結論:FPGA(Field-Programmable Gate Array)は出荷後でも機能を書き換え可能なプログラマブル半導体、ASIC(Application Specific Integrated Circuit)は特定用途向けに最適化した専用設計チップ。AI推論・通信・データセンターで両者の使い分けと優劣...