この記事のポイント：Femtoscience Inc.（韓国）はR&D・小規模生産向けの小型プラズマエッチング装置・アッシング装置・プラズマ表面処理装置を製造する韓国の精密プラズマ機器メーカー。大型装置メーカー（Lam Research・Tokyo Electron等）が手がけない「卓上・小型・研究室向けプラズマシステム」のニッチに特化し、大学・研究所・MEMS/マイクロデバイス開発企業向けに多様なプラズマプロセスツールを供給する。
| 企業名 | Femtoscience Inc. |
|---|---|
| 本社所在地 | 韓国 |
| 主力製品 | 小型プラズマエッチングシステム・アッシング装置・プラズマ表面活性化装置・ICP/RIEシステム |
| 主な顧客 | 大学・研究機関・MEMS開発企業・半導体スタートアップ・光デバイスメーカー |
| プロセス対応 | Si・SiO₂・Si₃N₄・GaN・GaAs・有機物アッシング・表面活性化（接合前処理） |
| 装置形態 | 卓上型（ベンチトップ）・スタンドアローン・クリーンルーム対応コンパクト仕様 |
なぜ「小型プラズマ装置」市場が存在するのか
半導体量産ラインで使われるLam Research・TELのプラズマエッチャーは1台数億円〜十数億円の大型装置で、R&D用途には過剰投資になる。大学の研究室・MEMSスタートアップ・新材料を試作する研究機関は「ウェハ数枚〜数十枚規模のプロセス確認用に、小型・低コスト・短納期で購入できるプラズマシステム」を必要としており、Femtoscienceはこのニーズを専門に満たす。
ポイント：プラズマ表面処理（プラズマ活性化・クリーニング）は半導体ウェハのダイレクトボンディング前処理・接着剤接合前の表面活性化・半導体パッケージ樹脂封止前の密着向上に広く使われ、R&D段階から量産移行時まで継続的に使用される消耗型プロセスツール。Femtoscienceの卓上型プラズマ装置はこの市場での韓国国内トップクラスのブランド認知を持つ。
主要製品・技術
① ICP（誘導結合プラズマ）エッチングシステム
高密度プラズマを生成するICP方式で、異方性エッチング（垂直側壁）が求められるMEMS・フォトニクス・GaN LEDの微細加工に対応。Siの深堀りエッチング（Bosch Processによる高アスペクト比加工）・SiO₂・Si₃N₄のゲート絶縁膜エッチングに対応した研究室向けコンパクトICP装置を提供する。
② プラズマアッシング装置
フォトレジスト除去（アッシング）専用の酸素プラズマ処理装置。リソグラフィー後のレジスト残渣を酸素プラズマで灰化除去し、ウェットエッチング液を使わない「ドライアッシング」プロセスの研究開発・工程確認に使われる。半導体・FPD・MEMSのプロセス開発に不可欠な基本ツール。
③ プラズマ表面活性化装置
ArおよびO₂/N₂プラズマでウェハ・チップ表面を活性化しボンディング・接着の密着性を向上させる装置。ウェハダイレクトボンディング（3D IC・ハイブリッドボンディング）の前処理としてプラズマ表面活性化が標準プロセス化しており、量産前のプロセス最適化フェーズでFemtoscienceの研究用装置が使われる。
投資・M&A視点での評価
Femtoscience（非上場）はR&D向けプラズマシステムという参入障壁の低い市場でのニッチプレーヤーだが、韓国の半導体・フォトニクス・MEMS研究機関に深く根ざした顧客基盤を持つ。先端パッケージング（3D IC・チップレット）の開発が世界的に加速する中でプラズマ表面活性化装置の需要は大学・研究機関から量産装置メーカーのアプリケーションラボまで拡大している。Nordson（MARCH）・Plasma-Therm・AdTec（日本）のようなプラズマ処理専門企業またはOSAT・装置メーカーが韓国顧客基盤獲得のためにM&A対象として評価する可能性がある。詳細は半導体業界の全体構造を読むも参照。
※本記事は公開情報をもとに作成した分析・解説記事です。投資判断等の根拠として使用する場合は、必ず一次情報をご確認ください。情報は執筆時点のものであり、最新状況とは異なる場合があります。
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