装置・材料|製造を支えるインフラ– category –
装置・材料|製造を支えるインフラでは、半導体工場で使われる製造装置、材料、部品、工場設備の役割を解説します。露光、成膜、エッチング、イオン注入、洗浄、CMP、検査・計測など工程別の装置を整理し、シリコンウェハ、フォトレジスト、特殊ガス、薬液、スラリー、ターゲット、絶縁膜・配線材料も紹介します。真空ポンプ、RF電源、MFC、チャンバー、搬送ロボット、FOUPなど装置を支えるコンポーネントや、超純水、ガス供給、排ガス処理、空調、クリーンルームといったFabインフラも扱います。微細化や3D化によって要求される精度、清浄度、生産性、保守性を理解し、装置・材料企業が半導体の性能と歩留まりをどのように支えているかを学べるカテゴリーです。装置の原理だけでなく、スループット、稼働率、保守、消耗品、プロセス条件との関係まで、製造現場の視点でわかりやすく整理します。
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装置・材料|製造を支えるインフラ
SOIウェハとは?構造・メリット・FD-SOIとRF用途を解説
SOIは、半導体の性能、歩留まり、製造コストを理解するうえで重要な用語です。SOI(Silicon on Insulator)は、シリコン支持基板の上に絶縁膜と薄い活性シリコン層を形成したウェハです。素子分離性、寄生容量、耐放射線性を改善できます。 本記事では「半... -
半導体製造設備・工場
Tool of Recordとは?半導体製造設備・工場の仕組み・管理指標を解説
Tool of Recordは、製品や工程を正式に処理する資格が承認された製造装置を示す管理概念です。 -
半導体製造設備・工場
WPHとは?半導体製造設備・工場の仕組み・管理指標を解説
WPH(Wafers Per Hour)は、半導体製造装置が1時間当たりに処理できるウェハ枚数を示す生産性指標です。 -
半導体製造設備・工場
MTTRとは?半導体製造設備・工場の仕組み・管理指標を解説
MTTRは、半導体製造装置が故障してから修理を完了し、生産へ復帰するまでの平均時間です。 -
半導体製造設備・工場
ULPAフィルタとは?半導体製造設備・工場の仕組み・管理指標を解説
ULPAフィルタは、HEPAより高い微粒子捕集性能を持ち、半導体の超清浄環境で使われるフィルタです。 -
半導体製造設備・工場
稼働率とは?半導体製造設備・工場の仕組み・管理指標を解説
稼働率は、設備が利用可能な時間のうち実際に生産処理へ使われた割合を示す工場KPIです。 -
半導体製造設備・工場
空調とは?半導体製造設備・工場の仕組み・管理指標を解説
半導体工場の空調は、クリーンルームの温度、湿度、清浄度、圧力を安定化するHVACシステムです。 -
半導体製造設備・工場
HEPAフィルタとは?半導体製造設備・工場の仕組み・管理指標を解説
HEPAフィルタは、クリーンルーム空気中の微粒子を高効率で捕集するエアフィルタです。 -
半導体製造設備・工場
薬液供給とは?半導体製造設備・工場の仕組み・管理指標を解説
薬液供給設備は、洗浄・エッチング・CMPなどで使う高純度薬液を保管、調合し、製造装置へ安定供給するシステムです。